炭化珪素(SiC)の成膜装置のクリーニング
- 開放特許情報番号
- L2019000500
- 開放特許情報登録日
- 2019/4/19
- 最新更新日
- 2019/4/19
基本情報
| 出願番号 | 特願2012-127018 |
|---|---|
| 出願日 | 2012/6/4 |
| 出願人 | 大陽日酸株式会社 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2013/12/12 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 大陽日酸株式会社 |
| 発明の名称 | 炭化珪素除去方法 |
| 技術分野 | 電気・電子、化学・薬品 |
| 機能 | 洗浄・除去 |
| 適用製品 | 炭化珪素の成膜装置のクリーニング技術 |
| 目的 | 炭化珪素の成膜装置のチャンバー内のクリーニングを行う。 |
| 効果 | 炭化珪素の成膜装置の内面のクリーニングを、インサイチュ(in−situ)でチャンバー内の損傷を抑制しかつ短時間で行うことができる。 |
技術概要![]() |
、@の終了後、Cを行いながら、AとBを交互に繰り返し行う。
Cの測定値が所定の閾値より低くなったとき、AとBを終了し、Dを開始する。 Dの終了後、再び@に戻る。 以上の工程により、チャンバー内のクリーニングを行う。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
|---|---|
その他の情報
| 関連特許 |
|
|---|

