炭化珪素(SiC)の成膜装置の部材のクリーニング

開放特許情報番号
L2019000498
開放特許情報登録日
2019/4/19
最新更新日
2019/4/19

基本情報

出願番号 特願2011-045239
出願日 2011/3/2
出願人 大陽日酸株式会社
公開番号 特開2012-182373
公開日 2012/9/20
登録番号 特許第5643679号
特許権者 大陽日酸株式会社
発明の名称 炭化珪素の除去方法
技術分野 電気・電子、化学・薬品
機能 洗浄・除去
適用製品 炭化珪素(SiC)の成膜装置の部材のクリーニング技術
目的 炭化珪素の成膜装置の部材のクリーニングを行う。
効果 炭化珪素の成膜装置の部材について、できるだけ損傷させず、付着物を除去することができる。
技術概要
図のように、まず、炭化珪素が付着した部材を収容するチャンバー内にプラズマ化したフッ素含有ガスを供給し、珪素成分を除去する。除去により生じる四フッ化珪素の濃度が最大になった後、5〜10測定時間区間で連続してマイナスになった段階で、プラズマ化したフッ素含有ガスの供給を終了する。
次に、チャンバー内にプラズマ化した酸素含有ガスを供給し、炭素成分を除去する。除去により生じる二酸化炭素の濃度が最大になった後、5〜10測定時間区間で連続してマイナスになった段階で、プラズマ化した酸素含有ガスの供給を終了する。
上記2つの工程を交互に行い、どちらかの濃度が設定した値より低くなった時、クリーニングを終了する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 大陽日酸株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2019 INPIT