炭化珪素(SiC)の成膜装置の部材のクリーニング

開放特許情報番号:L2019000498 開放特許情報登録日:2019/4/19 最新更新日:2026/6/30

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2011/3/2
公開日
2012/9/20
出願人
日本酸素ホールディングス株式会社
特許権者
日本酸素株式会社
権利化状況
権利化済
発明の名称
炭化珪素の除去方法
開放特許情報
技術分野
電気・電子 化学・薬品
機能
洗浄・除去
適用製品
炭化珪素(SiC)の成膜装置の部材のクリーニング技術
目的
炭化珪素の成膜装置の部材のクリーニングを行う。
効果
炭化珪素の成膜装置の部材について、できるだけ損傷させず、付着物を除去することができる。
技術概要
図のように、まず、炭化珪素が付着した部材を収容するチャンバー内にプラズマ化したフッ素含有ガスを供給し、珪素成分を除去する。除去により生じる四フッ化珪素の濃度が最大になった後、5〜10測定時間区間で連続してマイナスになった段階で、プラズマ化したフッ素含有ガスの供給を終了する。
次に、チャンバー内にプラズマ化した酸素含有ガスを供給し、炭素成分を除去する。除去により生じる二酸化炭素の濃度が最大になった後、5〜10測定時間区間で連続してマイナスになった段階で、プラズマ化した酸素含有ガスの供給を終了する。
上記2つの工程を交互に行い、どちらかの濃度が設定した値より低くなった時、クリーニングを終了する。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
登録者名称
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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