炭化珪素（ＳｉＣ）の成膜装置の部材のクリーニング
- 開放特許情報番号
- L2019000498
- 開放特許情報登録日
- 2019/4/19
- 最新更新日
- 2019/4/19
基本情報
| 出願番号 | 特願2011-045239 |
|---|---|
| 出願日 | 2011/3/2 |
| 出願人 | 大陽日酸株式会社 |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2012/9/20 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 大陽日酸株式会社 |
| 発明の名称 | 炭化珪素の除去方法 |
| 技術分野 | 電気・電子、化学・薬品 |
| 機能 | 洗浄・除去 |
| 適用製品 | 炭化珪素（ＳｉＣ）の成膜装置の部材のクリーニング技術 |
| 目的 | 炭化珪素の成膜装置の部材のクリーニングを行う。 |
| 効果 | 炭化珪素の成膜装置の部材について、できるだけ損傷させず、付着物を除去することができる。 |
技術概要) |
図のように、まず、炭化珪素が付着した部材を収容するチャンバー内にプラズマ化したフッ素含有ガスを供給し、珪素成分を除去する。除去により生じる四フッ化珪素の濃度が最大になった後、５〜１０測定時間区間で連続してマイナスになった段階で、プラズマ化したフッ素含有ガスの供給を終了する。
次に、チャンバー内にプラズマ化した酸素含有ガスを供給し、炭素成分を除去する。除去により生じる二酸化炭素の濃度が最大になった後、５〜１０測定時間区間で連続してマイナスになった段階で、プラズマ化した酸素含有ガスの供給を終了する。 上記２つの工程を交互に行い、どちらかの濃度が設定した値より低くなった時、クリーニングを終了する。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【否】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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