負熱膨張性薄膜の形成方法

開放特許情報番号
L2019000274
開放特許情報登録日
2019/2/7
最新更新日
2019/2/7

基本情報

出願番号 特願2016-165516
出願日 2016/8/26
出願人 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所
公開番号 特開2018-031063
公開日 2018/3/1
発明の名称 負熱膨張性薄膜の形成方法
技術分野 金属材料、化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 薄膜の形成方法
目的 負熱膨張性材料の製造に関する新規な技術を提供すること。
効果 負熱膨張性材料の製造に関する新規な技術を提供することができる。
技術概要
ペロブスカイト構造を有する基板を、所定温度となるように加熱する工程と、
前記基板上に、下記式(1)で表される化合物を含む負熱膨張性薄膜を、物理気相蒸着法により成長させる工程と、
を含むことを特徴とする負熱膨張性薄膜の形成方法。
BiNi↓(1−x)M↓xO↓3・・・(1)
[式(1)中、Mは3価イオンとなり得る金属である。また、xは0.02≦x≦0.80を満たす。]
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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