表面修飾基材の製造方法、接合体の製造方法、新規ヒドロシラン化合物および表面修飾基材

開放特許情報番号
L2019000187
開放特許情報登録日
2019/2/4
最新更新日
2019/2/4

基本情報

出願番号 特願2015-535915
出願日 2015/3/9
出願人 国立大学法人京都大学
公開番号 WO2015/136913
公開日 2015/9/17
登録番号 特許第5924633号
特許権者 国立大学法人京都大学
発明の名称 表面修飾基材の製造方法、接合体の製造方法、新規ヒドロシラン化合物および表面修飾基材
技術分野 化学・薬品、有機材料、機械・加工
機能 検査・検出
適用製品 新規なヒドロシラン化合物
目的 従来よりも低温かつ短時間での処理が可能であるとともに、基材の種類および用途などの自由度が高い、接合体の製造方法の提供である。
効果 従来よりも低温かつ短時間での基材表面の修飾が可能であるとともに、基材の形状、種類および用途、修飾反応の形態、ならびに基材表面に修飾させる分子構造の種類などの自由度が高い、表面修飾基材の製造方法が実現する。
技術概要
極性基が表面に存在する基材と、分子構造Aのケイ素原子に水素原子が結合したSi−H基を有するヒドロシラン化合物と、をボラン触媒の存在下で接触させ、前記基材と前記化合物との間で脱水素縮合反応を進行させることで、前記分子構造Aにより表面が修飾された前記基材を形成する工程を含む、表面修飾基材の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【有】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【有】   
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