薄膜作製用スパッタ装置

開放特許情報番号
L2019000164
開放特許情報登録日
2019/2/8
最新更新日
2019/2/8

基本情報

出願番号 特願2009-517758
出願日 2008/5/9
出願人 国立大学法人山口大学
公開番号 WO2008/149635
公開日 2008/12/11
登録番号 特許第5300084号
特許権者 国立大学法人山口大学
発明の名称 薄膜作製用スパッタ装置
技術分野 金属材料
機能 機械・部品の製造
適用製品 薄膜作製用スパッタ装置
目的 ターゲットホルダー外側の漏洩磁束を低減できるとともに、対向ターゲット間の磁束線パターンを容易に変化させることができ、多種な磁束線パターンを選択可能なボックス回転型多元対向スパッタを提供すること。
効果 磁極群の高機能な配置を施すことによって、対向するターゲット間で高プラズマ密度を実現して多元・コンパクト・低温スパッタが可能で、かつ基板大口径化にも容易に対応できる、高機能なボックス回転式多元スパッタ装置が実現できる。この装置を使用することで、ダメージを与えない低温スパッタを必要としている分野として、有機EL素子、透明電極ITOを堆積する必要がある液晶、超伝導トンネル接合や、強磁性トンネル接合、軟X線縮小投影リソグラフイ、X線ミラー多層膜、発光ダイオード分野などの高品質・高性能な電子デバイス作製が可能となる。
技術概要
回転できる多角柱体の回転軸に平行なそれぞれの面にターゲットを配置した多角柱型ターゲットホルダー一対を対向して配置した薄膜作製用スパッタ装置であって、
前記ターゲットの裏面には、複数の磁石、または、磁石及びヨークからなる磁極群が配置され、
前記磁極群は、異なる磁極方向の磁石またはヨークを含んでいることを特徴とする薄膜作製用スパッタ装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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