適用製品
銅亜鉛合金めっき膜の形成方法、銅亜鉛合金めっき膜
目的
ムラのない均一な銅亜鉛合金めっき膜を、極めて生産性よく大電流で形成することができる亜鉛合金めっき膜の形成方法及び銅亜鉛合金めっき膜を提供する。
効果
ムラのない均一な銅亜鉛合金めっき膜を、極めて生産性よく大電流で形成することができる亜鉛合金めっき膜の形成方法及び銅亜鉛合金めっき膜を提供することができる。
技術概要
銅イオンと、亜鉛イオンと、添加剤とを少なくとも有する銅亜鉛合金めっき液を用いる銅亜鉛合金めっき膜の形成方法であって、前記添加剤が、０．０５〜０．１５ｍｏｌ／Ｌの範囲内のＬ−ヒスチジンと、０．０１〜０．０２ｍｏｌ／Ｌの範囲内のＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）−１，２−エタンジアミンとを併用したことを特徴とする電気銅亜鉛合金めっき膜の形成方法。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
