半導体装置及び半導体装置の製造方法

開放特許情報番号
L2018002478
開放特許情報登録日
2018/12/11
最新更新日
2018/12/11

基本情報

出願番号 特願2016-009104
出願日 2016/1/20
出願人 国立大学法人京都大学
公開番号 特開2017-130556
公開日 2017/7/27
発明の名称 半導体装置及び半導体装置の製造方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 半導体装置及び該半導体装置の製造方法
目的 回路面積を小さくすることができる半導体装置及び該半導体装置の製造方法を提供すること。
効果 回路面積を小さくすることができる。
技術概要
クロック信号により制御される複数のスタンダードセルを有する半導体装置において、
前記スタンダードセルは、
インバータと、
前記クロック信号を反転させる反転回路と、
前記クロック信号及び前記反転回路で反転した反転クロック信号により制御されるトランスミッションゲートと、
前記クロック信号及び反転クロック信号により制御されるクロックドインバータと
を備え、
前記トランスミッションゲートの入力にデータ入力端子を接続し、
前記トランスミッションゲートの出力にデータ出力端子、前記インバータの入力及び前記クロックドインバータの出力を接続し、
前記インバータの出力を前記クロックドインバータの入力に接続してあることを特徴とする半導体装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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