ガスクラスターイオンビーム照射装置

開放特許情報番号

L2018002419

開放特許情報登録日

2018/12/5

最新更新日

2023/1/23

基本情報

出願番号	特願2004-343294
出願日	2004/11/29
出願人	株式会社日立製作所、国立大学法人京都大学
公開番号	特開2006-156065
公開日	2006/6/15
登録番号	特許第4636862号
特許権者	国立大学法人京都大学
発明の名称	ガスクラスターイオンビーム照射装置
技術分野	電気・電子、金属材料
機能	機械・部品の製造
適用製品	ガスクラスターイオンビーム照射装置
目的	加工損傷をナノメートルレベルに低減すること。
効果	従来のモノマーイオンビームと比べて１桁高いスパッタ率が得られるというガスクラスターイオンビームの特長を生かしつつ、ワーク加工面に対して垂直方向へのエネルギー成分を低減することで、モノマーイオンビームでは実現し得ない低損傷での平坦化加工が可能となる。具体的には、従来のモノマーイオンビームでは斜めから照射しても、１次イオンの侵入が避けられなかったが、ガスクラスターイオンビームでは本質的に１次イオンの侵入を抑制することができる。
技術概要	クラスター発生機構、前記クラスター発生機構で発生させたクラスターのイオン化機構、前記イオン化機構でイオン化させたクラスターイオンの加速機構を備えたガスクラスターイオンビーム照射装置であって、照射するガスクラスターイオンのサイズ（Ｎ）と照射エネルギー（Ｅ↓ａ）とワーク加工面の法線に対する角度（照射角：θ°）の関係が、０．０２ｅＶ≦（Ｅａ／Ｎ）×ｃｏｓ２θ≦０．５ｅＶとなるように制御することを特徴とするガスクラスターイオンビーム照射装置。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

アピール情報

アピール内容	京都大学「産学連携情報プラットフォーム（フィロ）」をご紹介します。 産学連携の新たな取り組みなど、有益な情報を発信しています。 https://philo.saci.kyoto-u.ac.jp/

登録者情報

登録者名称	国立大学法人京都大学

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】