ガスクラスターイオンビーム照射装置
- 開放特許情報番号
- L2018002419
- 開放特許情報登録日
- 2018/12/5
- 最新更新日
- 2023/1/23
基本情報
出願番号 | 特願2004-343294 |
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出願日 | 2004/11/29 |
出願人 | 株式会社日立製作所、国立大学法人京都大学 |
公開番号 | |
公開日 | 2006/6/15 |
登録番号 | |
特許権者 | 国立大学法人京都大学 |
発明の名称 | ガスクラスターイオンビーム照射装置 |
技術分野 | 電気・電子、金属材料 |
機能 | 機械・部品の製造 |
適用製品 | ガスクラスターイオンビーム照射装置 |
目的 | 加工損傷をナノメートルレベルに低減すること。 |
効果 | 従来のモノマーイオンビームと比べて1桁高いスパッタ率が得られるというガスクラスターイオンビームの特長を生かしつつ、ワーク加工面に対して垂直方向へのエネルギー成分を低減することで、モノマーイオンビームでは実現し得ない低損傷での平坦化加工が可能となる。具体的には、従来のモノマーイオンビームでは斜めから照射しても、1次イオンの侵入が避けられなかったが、ガスクラスターイオンビームでは本質的に1次イオンの侵入を抑制することができる。 |
技術概要![]() |
クラスター発生機構、前記クラスター発生機構で発生させたクラスターのイオン化機構、前記イオン化機構でイオン化させたクラスターイオンの加速機構を備えたガスクラスターイオンビーム照射装置であって、照射するガスクラスターイオンのサイズ(N)と照射エネルギー(E↓a)とワーク加工面の法線に対する角度(照射角:θ°)の関係が、0.02eV≦(Ea/N)×cos2θ≦0.5eVとなるように制御することを特徴とするガスクラスターイオンビーム照射装置。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
アピール情報
アピール内容 | 京都大学「産学連携情報プラットフォーム(フィロ)」をご紹介します。
産学連携の新たな取り組みなど、有益な情報を発信しています。 https://philo.saci.kyoto-u.ac.jp/ |
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登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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