ネオジム回収方法
- 開放特許情報番号
- L2018002262
- 開放特許情報登録日
- 2018/10/22
- 最新更新日
- 2018/10/22
基本情報
| 出願番号 | 特願2014-086947 |
|---|---|
| 出願日 | 2014/4/19 |
| 出願人 | 株式会社フィゾニット |
| 公開番号 | |
| 公開日 | 2015/11/19 |
| 登録番号 | |
| 特許権者 | 株式会社フィゾニット |
| 発明の名称 | ネオジム回収方法 |
| 技術分野 | 電気・電子 |
| 機能 | 材料・素材の製造、加熱・冷却 |
| 適用製品 | ネオジム回収方法 |
| 目的 | コストが低廉なネオジム回収方法を提供すること。 |
| 効果 | 水素化工程、水溶工程、濾過工程という三工程のみで水溶したネオジムを得ることができるので、工程数が少ない。また、処理温度が９００℃以下と、従来に比べて低温である。
よって、ネオジム磁石からネオジムを回収するためのコストが従来に比べて低廉である。 |
技術概要) |
ネオジム磁石に再生処理を施してネオジムを回収するネオジム回収方法であって、５５０〜９００℃の雰囲気下でネオジム磁石に水素を加えて水素化させ、水素化ネオジム，鉄，及び非晶質の鉄ボロン化合物が一体的に共存してなる三相共存物を生成する水素化工程２００と、ヒドロキシル基を有する液体を三相共存物に作用させて三相共存物の水素化ネオジム内のネオジムを水溶させる水溶工程３００と、液体を三相共存物に作用させてなる水溶液を濾過し、水溶工程３００で生成される鉄ボロン化合物粒子及び水溶工程３００において液体とは反応しなかった三相共存物を除去して、水溶したネオジムを得る濾過工程４００と、を備える。 |
| 実施実績 | 【無】 |
| 許諾実績 | 【無】 |
| 特許権譲渡 | 【可】 |
| 特許権実施許諾 | 【可】 |
登録者情報
| 登録者名称 | |
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その他の情報
| 関連特許 |
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