クリーニング方法およびクリーニング装置

開放特許情報番号
L2018001814
開放特許情報登録日
2018/8/20
最新更新日
2018/8/20

基本情報

出願番号 特願2011-001590
出願日 2011/1/7
出願人 富士通セミコンダクター株式会社
公開番号 特開2012-146712
公開日 2012/8/2
登録番号 特許第5678671号
特許権者 富士通セミコンダクター株式会社
発明の名称 クリーニング方法およびクリーニング装置
技術分野 電気・電子、情報・通信
機能 洗浄・除去、機械・部品の製造
適用製品 クリーニング技術
目的 EUV露光装置のチャンバ内に設置されたマスクや光学系に付着した炭素コンタミネーションを、当該マスクや光学系にダメージを与えることなく、効率的に分解・除去することのできるクリーニング技術を提供すること。
効果 被処理部材の表面に付着した炭素コンタミネーションを、当該被処理部材にダメージを与えることなく、効率的に分解・除去することが可能となる。
技術概要
被処理部材の近傍に酸素ガスと不飽和炭化水素ガスとを含む混合ガスを供給し、前記混合ガスに深紫外光および/または真空紫外光を照射することにより、前記被処理部材の表面の炭素コンタミネーションを分解・除去することを特徴とするクリーニング方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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