洗浄方法及び洗浄装置

開放特許情報番号
L2018001813
開放特許情報登録日
2018/8/20
最新更新日
2018/8/20

基本情報

出願番号 特願2010-292263
出願日 2010/12/28
出願人 富士通セミコンダクター株式会社
公開番号 特開2012-142343
公開日 2012/7/26
登録番号 特許第5834406号
特許権者 富士通セミコンダクター株式会社
発明の名称 洗浄方法及び洗浄装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、洗浄・除去、加熱・冷却
適用製品 洗浄方法及び洗浄装置
目的 基板に付着した異物を効率的に除去することができ、異物の再付着を抑制しうる洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
効果 開示の洗浄方法及び洗浄装置によれば、基板から除去した異物が基板に再付着するのを抑制することができる。これにより、異物の除去効率を向上することができる。
技術概要
処理室の内部に基板を配置し、前記処理室の内壁を冷却して前記内壁の温度を前記基板の温度より低くした状態で、前記内壁の温度よりも高い温度の気体を前記基板に噴射し、噴射した前記気体の風圧により、前記基板に付着した異物を除去する
ことを特徴とする洗浄方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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