極端紫外光利用装置

開放特許情報番号
L2018001812
開放特許情報登録日
2018/8/20
最新更新日
2018/8/20

基本情報

出願番号 特願2009-240742
出願日 2009/10/19
出願人 富士通セミコンダクター株式会社
公開番号 特開2011-086885
公開日 2011/4/28
登録番号 特許第5381607号
特許権者 富士通セミコンダクター株式会社
発明の名称 極端紫外光利用装置
技術分野 電気・電子、情報・通信、機械・加工
機能 機械・部品の製造、洗浄・除去、検査・検出
適用製品 極端紫外光利用装置
目的 極端紫外光利用装置に備えられた反射光学部材に劣化を生ずることなく、炭素汚染をその場クリーニングで効率的に除去すること。
効果 オゾンと不飽和炭化水素との反応により発生する活性種を用いたクリーニング機構を装置に備えているので、反射光学部材に劣化を生ずることなく、炭素汚染をその場クリーニングで効率的に除去することができる。
技術概要
処理室と、
前記処理室に入射する100nm以下の波長の紫外線を発生させる極端紫外光源と、
前記処理室に収容され、前記極端紫外光を反射する反射光学部材と、
不飽和炭化水素ガスとオゾンガスとを反応させて発生した活性種によって前記反射光学部材の炭素汚染をクリーニングするクリーニング機構と
を備えた極端紫外光利用装置。
実施実績 【試作】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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