流体浄化装置

開放特許情報番号
L2018001798
開放特許情報登録日
2018/8/20
最新更新日
2018/8/20

基本情報

出願番号 特願2002-356796
出願日 2002/12/9
出願人 富士通セミコンダクター株式会社
公開番号 特開2004-190892
公開日 2004/7/8
登録番号 特許第4447213号
特許権者 富士通セミコンダクター株式会社
発明の名称 流体浄化装置
技術分野 機械・加工
機能 機械・部品の製造、洗浄・除去
適用製品 流体浄化装置
目的 流体浄化装置で用いられる吸着剤フィルタの吸着能力を最大限に活用して、高度に清浄な流体を長期にわたり安定して供給するのを可能にする流体浄化装置を提供すること。
効果 光触媒の効率的な使用により、吸着剤フィルタを長寿命化し、且つ汚染物除去効率を高めた流体除去装置の利用が可能になり、クリーンルームをはじめとする環境制御の不可欠な空間の環境制御を容易にすることができる。
技術概要
被処理流体から汚染物質を除去してそれを浄化する流体浄化装置であって、
前記被処理流体中の汚染物質を分解可能な光触媒及び前記光触媒を励起するための励起光源を有する光触媒ユニットと、
前記被処理流体の流動方向に対し前記光触媒ユニットの下流側に配置され、前記被処理流体中の汚染物質を吸着し得る吸着剤フィルタユニットと、
前記被処理流体の流動方向に対し前記吸着剤フィルタユニットの下流側に配置した除塵フィルタユニットと、
前記被処理流体を前記光触媒ユニット又は前記吸着剤ユニットへ選択的に導入する切り換え手段と
を含むとともに、当該流体浄化装置の上流側への循環経路を含むことを特徴とする流体浄化装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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