プラスチックの基材にセラミック膜を形成する方法

開放特許情報番号
L2018001793
開放特許情報登録日
2018/8/17
最新更新日
2018/8/17

基本情報

出願番号 特願2011-285428
出願日 2011/12/27
出願人 学校法人 関西大学
公開番号 特開2013-132614
公開日 2013/7/8
登録番号 特許第5924615号
特許権者 学校法人 関西大学
発明の名称 プラスチックの基材にセラミック膜を形成する方法
技術分野 機械・加工、金属材料
機能 材料・素材の製造、表面処理
適用製品 プラスチックの基材にセラミック膜を形成する方法
目的 接着剤を介することなく液相法による種々のセラミック膜をプラスチック基材上に形成する方法を提供すること。
効果 この発明によれば、プラスチックの基材の表面に常圧でセラミック膜が作製されるので、高価な装置を要しない。従って例えば、プラスチック材料の表面に、反射率の高いセラミック膜、反射率の低いセラミック薄膜、電気伝導性に優れたセラミック膜、あるいは圧電性をもつセラミック膜を作製することによって、プラスチック材料表面に高い反射率、反射防止能、電気伝導性、圧電性を低コストで付与することができる。しかもセラミック膜が接着剤を介さずに基材に直接形成されているので、セラミック膜の表面硬度が高く、力学的耐久性に優れる。
技術概要
支持体上にポリイミド膜又はポリイミドとポリビニルピロリドンとの混合膜を形成する工程と、
その上に金属塩の溶液を塗布した後、500℃以上に加熱することにより、前記有機高分子膜上にセラミック膜を形成する工程と、
前記セラミック膜を熱可塑性プラスチックの基材と合わせた状態でセラミック膜と基材との界面を前記プラスチックのガラス転移温度以上に加熱することにより、基材上にセラミック膜を転写する工程と
を備えることを特徴とする、プラスチックの基材にセラミック膜を形成する方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 関西大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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