GaN−HEMT マイクロ波照射_14_マイクロ波加熱装置_2017年度WIPO GREEN DB登録済

開放特許情報番号
L2018001774
開放特許情報登録日
2018/8/14
最新更新日
2018/8/14

基本情報

出願番号 特願2016-178429
出願日 2016/9/13
出願人 富士通株式会社
公開番号 特開2018-045813
公開日 2018/3/22
発明の名称 マイクロ波加熱装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 マイクロ波加熱装置
目的 被加熱物を加熱する際、被加熱物の一部だけを部分的に加熱することのできるマイクロ波加熱装置を提供する。
効果 マイクロ波加熱装置において、被加熱物を加熱する際、被加熱物の一部を部分的に加熱することができる。
技術概要
被加熱物が載置される加熱室と、
前記加熱室に設けられた第1の凹部及び第2の凹部と、
前記第1の凹部の中に入れられた第1のアンテナと、
前記第2の凹部の中に入れられた第2のアンテナと、
前記第1のアンテナに接続された第1のマイクロ波発生部と、
前記第2のアンテナに接続された第2のマイクロ波発生部と、
前記第1のマイクロ波発生部及び前記第2のマイクロ波発生部を制御する制御部と、
を有し、
前記第1の凹部は、前記第1のアンテナより放射されたマイクロ波を反射し、
前記第2の凹部は、前記第2のアンテナより放射されたマイクロ波を反射することを特徴とするマイクロ波加熱装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 【SDGs目標】 7.エネルギーをみんなに そしてクリーンに

登録者情報

登録者名称 富士通株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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