パターン基材およびその製造方法ならびにパターン形成用基材

開放特許情報番号
L2018001755
開放特許情報登録日
2018/8/10
最新更新日
2018/8/10

基本情報

出願番号 特願2014-039966
出願日 2014/2/28
出願人 学校法人 関西大学
公開番号 特開2015-164978
公開日 2015/9/17
発明の名称 パターン基材およびその製造方法ならびにパターン形成用基材
技術分野 有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 粒子密度パターンを有する基材およびその製造方法、ならびにパターン形成用基材
目的 光応答性高分子を利用した新たな微細パターン形成技術につき実用化に向けた応用展開を図ること。
効果 本発明に係るパターン基材は、ホログラム等の表示素子、記録材料、微細配線素子等の技術分野の要素技術として利用することができる。
技術概要
光照射により体積変化する高分子材料と、前記高分子材料に分散される粒子とを含有する粒子含有高分子材料から形成される基材を準備する準備工程と、
前記基材に対して光を照射して(a)第1体積変化領域、(b)前記第1体積変化領域における体積変化度と異なる体積変化度を有する第2体積変化領域および(c)未体積変化領域のうちの少なくとも2種の領域のパターンを形成する光照射工程と
を備える、パターン基材の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 関西大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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