| 出願番号 |
特願2014-039966 |
| 出願日 |
2014/2/28 |
| 出願人 |
学校法人 関西大学 |
| 公開番号 |
特開2015-164978 |
| 公開日 |
2015/9/17 |
| 登録番号 |
特許第6404578号 |
| 特許権者 |
学校法人 関西大学 |
| 発明の名称 |
パターン基材およびその製造方法ならびにパターン形成用基材 |
| 技術分野 |
有機材料 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
粒子密度パターンを有する基材およびその製造方法、ならびにパターン形成用基材 |
| 目的 |
光応答性高分子を利用した新たな微細パターン形成技術につき実用化に向けた応用展開を図ること。 |
| 効果 |
本発明に係るパターン基材は、ホログラム等の表示素子、記録材料、微細配線素子等の技術分野の要素技術として利用することができる。 |
技術概要
 |
光照射により体積変化する高分子材料と、前記高分子材料に分散される粒子とを含有する粒子含有高分子材料から形成される基材を準備する準備工程と、
前記基材に対して光を照射して（ａ）第１体積変化領域、（ｂ）前記第１体積変化領域における体積変化度と異なる体積変化度を有する第２体積変化領域および（ｃ）未体積変化領域のうちの少なくとも２種の領域のパターンを形成する光照射工程と
を備える、パターン基材の製造方法。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
)