GaN−HEMT マイクロ波照射_10_加熱装置_2017年度WIPO GREEN DB登録済

開放特許情報番号
L2018001719
開放特許情報登録日
2018/8/7
最新更新日
2018/8/7

基本情報

出願番号 特願2015-134390
出願日 2015/7/3
出願人 富士通株式会社
公開番号 特開2017-016951
公開日 2017/1/19
発明の名称 加熱装置
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品 加熱装置
目的 被加熱物を選択的に加熱できる加熱装置を提供すること。
効果 被加熱物を選択的に加熱できる加熱装置を提供することができる。
技術概要
高周波電力を出力する高周波源と、
被加熱物が載置される第1領域及び第2領域を有する基台と、
前記基台の第1領域に設けられ、前記第1領域から前記高周波電力を放射する第1放射部と、
前記基台の第2領域に設けられ、前記第2領域から前記高周波電力を放射する第2放射部と、
前記被加熱物のうちの前記第1領域に載置される第1部分と、前記被加熱物のうちの前記第2領域に載置される第2部分との内容に応じて、前記第1放射部又は前記第2放射部の駆動制御を行う駆動制御部と
を含む、加熱装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 【SDGs目標】 12.つくる責任 つかう責任, 7.エネルギーをみんなに そしてクリーンに

登録者情報

登録者名称 富士通株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【無】   
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