GaN−HEMT マイクロ波照射_10_加熱装置_2017年度WIPO GREEN DB登録済
- 開放特許情報番号
- L2018001719
- 開放特許情報登録日
- 2018/8/7
- 最新更新日
- 2018/8/7
基本情報
出願番号 | 特願2015-134390 |
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出願日 | 2015/7/3 |
出願人 | 富士通株式会社 |
公開番号 | |
公開日 | 2017/1/19 |
発明の名称 | 加熱装置 |
技術分野 | 電気・電子 |
機能 | 機械・部品の製造、制御・ソフトウェア |
適用製品 | 加熱装置 |
目的 | 被加熱物を選択的に加熱できる加熱装置を提供すること。 |
効果 | 被加熱物を選択的に加熱できる加熱装置を提供することができる。 |
技術概要![]() |
高周波電力を出力する高周波源と、
被加熱物が載置される第1領域及び第2領域を有する基台と、 前記基台の第1領域に設けられ、前記第1領域から前記高周波電力を放射する第1放射部と、 前記基台の第2領域に設けられ、前記第2領域から前記高周波電力を放射する第2放射部と、 前記被加熱物のうちの前記第1領域に載置される第1部分と、前記被加熱物のうちの前記第2領域に載置される第2部分との内容に応じて、前記第1放射部又は前記第2放射部の駆動制御を行う駆動制御部と を含む、加熱装置。 |
実施実績 | 【無】 |
許諾実績 | 【無】 |
特許権譲渡 | 【否】 |
特許権実施許諾 | 【可】 |
アピール情報
アピール内容 | 【SDGs目標】 12.つくる責任 つかう責任, 7.エネルギーをみんなに そしてクリーンに |
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登録者情報
登録者名称 | |
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その他の情報
関連特許 |
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