ＧａＮ－ＨＥＭＴ　マイクロ波照射＿１０＿加熱装置＿２０１７年度ＷＩＰＯ　ＧＲＥＥＮ　ＤＢ登録済

基本情報

出願番号	特願2015-134390
出願日	2015/7/3
出願人	富士通株式会社
公開番号	特開2017-016951
公開日	2017/1/19
発明の名称	加熱装置
技術分野	電気・電子
機能	機械・部品の製造、制御・ソフトウェア
適用製品	加熱装置
目的	被加熱物を選択的に加熱できる加熱装置を提供すること。
効果	被加熱物を選択的に加熱できる加熱装置を提供することができる。
技術概要	高周波電力を出力する高周波源と、被加熱物が載置される第１領域及び第２領域を有する基台と、前記基台の第１領域に設けられ、前記第１領域から前記高周波電力を放射する第１放射部と、前記基台の第２領域に設けられ、前記第２領域から前記高周波電力を放射する第２放射部と、前記被加熱物のうちの前記第１領域に載置される第１部分と、前記被加熱物のうちの前記第２領域に載置される第２部分との内容に応じて、前記第１放射部又は前記第２放射部の駆動制御を行う駆動制御部とを含む、加熱装置。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

アピール内容	【SDGs目標】　12.つくる責任　つかう責任,　7.エネルギーをみんなに　そしてクリーンに

登録者名称	富士通株式会社