| 出願番号 |
特願2012-151174 |
| 出願日 |
2008/5/1 |
| 出願人 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 |
特開2012-184777 |
| 公開日 |
2012/9/27 |
| 登録番号 |
特許第5757531号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 発明の名称 |
２方向性形状記憶合金薄膜アクチュエータとそれに使用される形状記憶合金薄膜の製造方法 |
| 技術分野 |
機械・加工 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
２方向性形状記憶合金薄膜アクチュエータとそれに使用される形状記憶合金薄膜の製造方法 |
| 目的 |
室温以上の温度で作動し、特段のバイアス力付与が不要な二方向性形状記憶合金薄膜アクチュエータを実現し、また、これを簡便に製造すること。 |
| 効果 |
本発明の形状記憶合金薄膜アクチュエータでは、基板に変形を与えて立体的に自由に配置した２方向性形状記憶合金薄膜アクチュエータを製造することができる。 |
技術概要
 |
曲げ加工可能な樹脂膜からなる基板と、これに一体の変態温度が室温以上の、ＴｉとＣｕと残部がＮｉよりなる結晶性の形状記憶合金薄膜で構成されており、成膜時に蓄積された残留応力によって２方向性を発揮する２方向性形状記憶合金薄膜アクチュエータであって、
前記Ｔｉ、Ｃｕの含有量が、原子単位でＴｉ：全体の１／３超１／２未満、Ｃｕ：全体の６〜２６％であることを特徴とする２方向性形状記憶合金薄膜アクチュエータ。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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