グラフェン球状中空体の作成方法、グラフェン球状中空体、グラフェン球状中空体集積電極及びグラフェン球状中空体集積キャパシター

開放特許情報番号
L2018001551
開放特許情報登録日
2018/7/24
最新更新日
2018/7/24

基本情報

出願番号 特願2013-118077
出願日 2013/6/4
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2014-240330
公開日 2014/12/25
登録番号 特許第6120277号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 グラフェン球状中空体の作成方法、グラフェン球状中空体、グラフェン球状中空体集積電極及びグラフェン球状中空体集積キャパシター
技術分野 化学・薬品、無機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 グラフェン球状中空体の作成方法、グラフェン球状中空体、グラフェン球状中空体集積電極及びグラフェン球状中空体集積キャパシター
目的 比容量の高いキャパシターを形成可能なグラフェン球状中空体、その作成方法、グラフェン球状中空体集積電極及びグラフェン球状中空体集積キャパシターを提供すること。
効果 本発明のグラフェン中空構造体は、グラフェン膜からなるシェルを有し、前記シェル内に中空部が形成されている構成なので、シェル内の反応活性の高い表面同士を重ねあわすことなく、ナノ/マクロ構造体に集積することができ、比容量の高いキャパシターを形成できる。
技術概要
任意の3次元形状としたポリマー成型体と酸化グラフェン粉末を水に混合・分散して、水溶液中に、前記ポリマー成型体をコアとし、前記ポリマー成型体の表面を被膜する酸化グラフェン膜をシェルとする第1のコア−シェル構造体を作成する工程と、
前記ポリマー成型体の表面を被膜する酸化グラフェン膜をグラフェン膜に還元して、水溶液中に、前記ポリマー成型体をコアとし、前記ポリマー成型体の表面を被膜するグラフェン膜をシェルとする第2のコア−シェル構造体を作成する工程と、
前記第2のコア−シェル構造体を加熱して、前記第2のコア−シェル構造体中のポリマー成型体からなるコアを分解・除去して、グラフェン膜からなるシェルと前記シェル内に形成された中空部を有するグラフェン中空構造体を作成する工程と、を有することを特徴とするグラフェン中空構造体の作成方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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