コンタクトプローブ及びその製造方法、非破壊的なコンタクト形成方法、多層膜の製造過程における測定方法並びにプローバー

開放特許情報番号
L2018001525
開放特許情報登録日
2018/7/24
最新更新日
2018/7/24

基本情報

出願番号 特願2014-116359
出願日 2014/6/5
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2015-014595
公開日 2015/1/22
発明の名称 コンタクトプローブ及びその製造方法、非破壊的なコンタクト形成方法、多層膜の製造過程における測定方法並びにプローバー
技術分野 情報・通信
機能 機械・部品の製造
適用製品 コンタクトプローブ及びその製造方法、非破壊的なコンタクト形成方法、多層膜の製造過程における測定方法及びプローバー
目的 nm厚さの膜に対しても非破壊的な電気コンタクトを可逆的に形成することができるコンタクトプローブを提供すること。
効果 配線や電極パッドを作製せずに電気特性評価ができ大幅な時間短縮が可能になるほか、XPSによるバンドアライメント評価、内部光電効果や起電力測定等の多様な評価・測定も同様に行うことができる。更に、弾性変形領域におけるコンタクトが可能なため、コンタクト対象の試料に痕跡を残さない測定が可能となる。つまり、全く非破壊で可逆的なコンタクトであれば、特性評価後さらに膜を積層し続けることも可能で、製膜条件の最適化へのその場フィードバックや製膜中のモニタリングも可能になる。
技術概要
長手方向に伸び、電気伝導性を有する弾性体の支持体と、
前記支持体に取り付けられ、少なくとも表面の一部が球面の電気伝導性を有する接触部と
を設け、
前記接触部の前記球面の表面をnm厚の膜に非破壊的に接触させて前記膜との電気コンタクトを得るコンタクトプローブ。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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