GaN−HEMT マイクロ波照射_11_マイクロ波照射装置及び排気浄化装置_2017年度WIPO GREEN DB登録済

開放特許情報番号
L2018001227
開放特許情報登録日
2018/6/15
最新更新日
2018/6/15

基本情報

出願番号 特願2015-215112
出願日 2015/10/30
出願人 富士通株式会社
公開番号 特開2017-084744
公開日 2017/5/18
発明の名称 マイクロ波照射装置及び排気浄化装置
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 マイクロ波照射装置及び排気浄化装置
目的 照射されるマイクロ波の強度の強い部分と弱い部分との差を小さいマイクロ波照射装置をを提供する。
効果 開示のマイクロ波照射装置によれば、被加熱物を均一に加熱することができる。
技術概要
円環状のマイクロ波伝送路と、
前記円環状のマイクロ波伝送路に接続されている第1のマイクロ波発生部と、
前記円環状のマイクロ波伝送路に接続されている第2のマイクロ波発生部と、
を有し、
前記第1のマイクロ波発生部において発生させたマイクロ波と、前記第2のマイクロ波発生部において発生させたマイクロ波とは、同じ周波数であって、位相が異なることを特徴とするマイクロ波照射装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 ファミリ:米国_15/263770, 【SDGs目標】 12.つくる責任 つかう責任, 7.エネルギーをみんなに そしてクリーンに

登録者情報

登録者名称 富士通株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【有】   
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