光両性物質発生剤

開放特許情報番号
L2018001188
開放特許情報登録日
2018/6/5
最新更新日
2020/3/18

基本情報

出願番号 特願2016-123089
出願日 2016/6/21
出願人 国立大学法人千葉大学
公開番号 特開2017-226744
公開日 2017/12/28
登録番号 特許第6654322号
特許権者 国立大学法人千葉大学
発明の名称 光両性物質発生剤
技術分野 化学・薬品、有機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 光両性物質発生剤
目的 酸拡散を抑制し、より高精細なレジストを行うことのできる光両性物質発生剤及びこれを用いたレジスト方法を提供する。
効果 酸拡散を抑制し、より高精細なレジストを行うことのできる光両性物質発生剤及びこれを用いたレジスト方法を提供することができる。
技術概要
 
アダマンタン構造を有する光両性物質発生剤。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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