GaN−HEMT マイクロ波照射_8_マイクロ波照射装置、排気浄化装置、加熱装置及び化学反応装置_2017年度WIPO GREEN DB登録済

開放特許情報番号
L2018001147
開放特許情報登録日
2018/5/29
最新更新日
2018/5/29

基本情報

出願番号 特願2016-007943
出願日 2016/1/19
出願人 富士通株式会社
公開番号 特開2017-130307
公開日 2017/7/27
発明の名称 マイクロ波照射装置、排気浄化装置、加熱装置及び化学反応装置
技術分野 電気・電子、機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 マイクロ波照射装置、排気浄化装置、加熱装置及び化学反応装置
目的 照射されるマイクロ波の強度の強い部分と弱い部分との差を小さいマイクロ波照射装置を提供する。
効果 開示のマイクロ波照射装置によれば、被加熱物を均一に加熱することができる。
技術概要
被加熱物が入れられる筐体部20と、筐体部の周囲に設けられた複数のマイクロ波共振器30a〜30hと、複数のマイクロ波共振器同士を接続するマイクロ波伝導部と、周波数の異なるマイクロ波を発生させるマイクロ波発生部50と、を有し、マイクロ波共振器は、マイクロ波発生部において発生させたマイクロ波共振器の共振周波数のマイクロ波を共振させ、筐体部に入れられた被加熱物10に照射するものであって、複数のマイクロ波共振器のうちの一のマイクロ波共振器と、他の一のマイクロ波共振器とは、共振周波数が異なるものである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 ファミリ:米国_15/364224, 【SDGs目標】 12.つくる責任 つかう責任, 7.エネルギーをみんなに そしてクリーンに

登録者情報

登録者名称 富士通株式会社

その他の情報

関連特許
国内 【有】
国外 【有】   
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