プラズマキャビティ用フランジ、プラズマキャビティ及びプラズマCVD装置

開放特許情報番号
L2018000903
開放特許情報登録日
2018/5/9
最新更新日
2018/5/9

基本情報

出願番号 特願2014-137415
出願日 2014/7/3
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2016-015429
公開日 2016/1/28
発明の名称 プラズマキャビティ用フランジ、プラズマキャビティ及びプラズマCVD装置
技術分野 電気・電子、金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 プラズマキャビティ用フランジ、プラズマキャビティ及びプラズマCVD装置
目的 原料ガス中のリン(P)を高効率でダイヤモンド膜内に導入可能なプラズマキャビティ用フランジ、プラズマキャビティ及びプラズマCVD装置を提供すること。
効果 原料ガス中のリン(P)を高効率でダイヤモンド膜内に導入できる。
技術概要
略円板状のプラズマキャビティ用フランジであって、外周側面部がマイクロ波反射形状とされており、基板配置領域を囲むように平面視リング状のガス排出領域が設けられており、前記ガス排出領域内に6以上の平面視円状の孔部が設けられ、前記孔部の直径は6mm以下であり、基板中心点に対して点対称に設けられ、隣接する孔部の中心点間隔が少なくとも5.5mm以上とされているプラズマキャビティ用フランジを用いることにより、前記課題を解決できる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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