| 出願番号 |
特願2014-137415 |
| 出願日 |
2014/7/3 |
| 出願人 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 |
特開2016-015429 |
| 公開日 |
2016/1/28 |
| 登録番号 |
特許第6341565号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 発明の名称 |
プラズマキャビティ用フランジ、プラズマキャビティ及びプラズマＣＶＤ装置 |
| 技術分野 |
電気・電子、金属材料 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
プラズマキャビティ用フランジ、プラズマキャビティ及びプラズマＣＶＤ装置 |
| 目的 |
原料ガス中のリン（Ｐ）を高効率でダイヤモンド膜内に導入可能なプラズマキャビティ用フランジ、プラズマキャビティ及びプラズマＣＶＤ装置を提供すること。 |
| 効果 |
原料ガス中のリン（Ｐ）を高効率でダイヤモンド膜内に導入できる。 |
技術概要
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略円板状のプラズマキャビティ用フランジであって、外周側面部がマイクロ波反射形状とされており、基板配置領域を囲むように平面視リング状のガス排出領域が設けられており、前記ガス排出領域内に６以上の平面視円状の孔部が設けられ、前記孔部の直径は６ｍｍ以下であり、基板中心点に対して点対称に設けられ、隣接する孔部の中心点間隔が少なくとも５．５ｍｍ以上とされているプラズマキャビティ用フランジを用いることにより、前記課題を解決できる。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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