グラフェン及び化学修飾グラフェンの製造方法

開放特許情報番号
L2018000829
開放特許情報登録日
2018/4/26
最新更新日
2018/4/26

基本情報

出願番号 特願2016-119006
出願日 2016/6/15
出願人 国立大学法人 熊本大学
公開番号 特開2017-222538
公開日 2017/12/21
発明の名称 グラフェン及び化学修飾グラフェンの製造方法
技術分野 化学・薬品、無機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 グラフェン及び化学修飾グラフェンの製造方法
目的 グラフェン、ナノグラフェン、及び化学修飾グラフェンを簡易的かつ大量に合成する方法を提供する。
効果 本発明によれば、たとえば以下の効果を得ることができる。
(1)数十nmまでのナノグラフェンを作製することができる。グラフェンの寸法は、印加電圧及び電流量、溶媒を変更することによって制御することができる。
(2)溶媒を変更することによって、グラフェンやナノグラフェン、窒素やホウ素、リン、ハロゲン元素(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、カルコゲン(イオウ、セレン、テルル)で化学修飾したグラフェンを作製することができ、またその導入量や寸法も制御することができる。
技術概要
化学修飾型グラフェンの製造方法であって、化学修飾基を構成する原子を含む溶媒中に一対の炭素電極を浸漬させ、当該一対の炭素電極間に火花放電を繰り返し発生させ、当該一対の炭素電極から化学修飾型グラフェンを形成することを特徴とする方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 国立大学法人熊本大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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