連続的相転移と放射による超分子構造の生成

開放特許情報番号
L2018000754
開放特許情報登録日
2018/4/16
最新更新日
2018/12/24

基本情報

出願番号 特願2014-219958
出願日 2014/10/29
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2016-107344
公開日 2016/6/20
発明の名称 連続的相転移と放射による超分子構造の生成方法
技術分野 輸送
機能 材料・素材の製造
適用製品 超分子構造
目的 化学合成によらずに形成された超分子構造を確立すること。
効果 本発明は、コンピューティング、医療、生産、ロボット産業に使用できる。本発明は、特定の構成中で数個の原子を適切に選択することにより、大規模な複雑な構造の構築をプログラムすることができる。その後、シード材料が適当な環境内に配置された場合、最終的な複合構造は少数の原子の初期セットから自動的に形成される。また、本発明は、原子スケールで、増々繊細で、難しくなり、時間のかかり、誤りのある精密工学の問題を克服するための、原子レベルのエンジニアリングを提供できる。
技術概要
超分子構造は、分子集合体の連続相転移により形成されるものである。これら分子は、適切な外部の電磁的または機械的な信号ポンピングの適用の下に二次元または三次元の幾何学的形状に集合する。この信号ポンピングは、参加する分子の共鳴振動で誘発される同期をトリガーする。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2021 INPIT