| 出願番号 |
特願2014-255821 |
| 出願日 |
2014/12/18 |
| 出願人 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 |
特開2016-113350 |
| 公開日 |
2016/6/23 |
| 登録番号 |
特許第6478184号 |
| 特許権者 |
国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 発明の名称 |
水素発生装置及び水素発生方法 |
| 技術分野 |
化学・薬品、無機材料、機械・加工 |
| 機能 |
材料・素材の製造、機械・部品の製造 |
| 適用製品 |
水素発生装置及び水素発生方法 |
| 目的 |
可視光照射により、効率高く、短時間で十分な量の水素を発生可能な水素発生装置及び水素発生方法を提供する。 |
| 効果 |
本発明の水素発生装置は、可視光照射により、効率高く、短時間で十分な量の水素を発生可能な水素発生装置及び水素発生方法を提供できる。
本発明の水素発生方法は、可視光照射により、効率が高く、短時間で十分な量の水素を発生させることができる。 |
技術概要
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反応容器と、前記反応容器内に貯蔵された懸濁液と、を有し、前記懸濁液は、反応液と、前記反応液中に分散された光触媒とからなり、前記反応液が水又は有機溶媒含有水溶液であり、前記光触媒が半導体粒子からなる粉末であり、前記半導体粒子は、イオン結合性が１以下であり、バンドギャップが２．９５ｅＶ未満であることを特徴とする水素発生装置。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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