光インプリント用樹脂組成物、パターン形成方法及びエッチングマスク

開放特許情報番号
L2018000673
開放特許情報登録日
2018/4/13
最新更新日
2018/4/13

基本情報

出願番号 特願2012-552640
出願日 2011/12/2
出願人 丸善石油化学株式会社
公開番号 WO2012/096071
公開日 2012/7/19
登録番号 特許第5890323号
特許権者 丸善石油化学株式会社
発明の名称 光インプリント用樹脂組成物、パターン形成方法及びエッチングマスク
技術分野 有機材料、電気・電子、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 光インプリント用樹脂組成物、パターン形成方法、及びエッチングマスク
目的 光インプリントに適用可能であり、樹脂組成物の硬化物薄膜パターン形成時にも基材上の成分の揮発が少なく、良好なパターンが形成でき、基板を高精度に加工するためのエッチングマスクとして、硬化物の耐エッチング性に優れた光インプリント用樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、及びエッチングマスクを提供する。
効果 本発明の光インプリント用樹脂組成物を用いることにより、基材への薄膜塗布後の揮発性が抑えられ、且つ得られた硬化物は耐エッチング性に優れ、基板を高精度に加工するエッチングマスクとして好適である。
技術概要
光硬化性モノマー(A)、光硬化性モノマー(B)、及び光重合開始剤「C」を含み、前記光硬化性モノマー(A)が下記式(1)で表されるカルバゾール化合物を少なくとも1種類と、前記光硬化性モノマー(B)が下記式(2)、(3)及び(4)で表される化合物のうち少なくとも1種類を含有し、且つ、光硬化性モノマー(A)と光硬化性モノマー(B)との重量比率(光硬化性モノマー(A)の重量/光硬化性モノマー(B)の重量))が30/70〜87/13である光インプリント用樹脂組成物。
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2018 INPIT