出願番号 |
特願2012-552640 |
出願日 |
2011/12/2 |
出願人 |
丸善石油化学株式会社 |
公開番号 |
WO2012/096071 |
公開日 |
2012/7/19 |
登録番号 |
特許第5890323号 |
特許権者 |
丸善石油化学株式会社 |
発明の名称 |
光インプリント用樹脂組成物、パターン形成方法及びエッチングマスク |
技術分野 |
有機材料、電気・電子、機械・加工 |
機能 |
材料・素材の製造 |
適用製品 |
光インプリント用樹脂組成物、パターン形成方法、及びエッチングマスク |
目的 |
光インプリントに適用可能であり、樹脂組成物の硬化物薄膜パターン形成時にも基材上の成分の揮発が少なく、良好なパターンが形成でき、基板を高精度に加工するためのエッチングマスクとして、硬化物の耐エッチング性に優れた光インプリント用樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、及びエッチングマスクを提供する。 |
効果 |
本発明の光インプリント用樹脂組成物を用いることにより、基材への薄膜塗布後の揮発性が抑えられ、且つ得られた硬化物は耐エッチング性に優れ、基板を高精度に加工するエッチングマスクとして好適である。 |
技術概要
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光硬化性モノマー(A)、光硬化性モノマー(B)、及び光重合開始剤「C」を含み、前記光硬化性モノマー(A)が下記式(1)で表されるカルバゾール化合物を少なくとも1種類と、前記光硬化性モノマー(B)が下記式(2)、(3)及び(4)で表される化合物のうち少なくとも1種類を含有し、且つ、光硬化性モノマー(A)と光硬化性モノマー(B)との重量比率(光硬化性モノマー(A)の重量/光硬化性モノマー(B)の重量))が30/70〜87/13である光インプリント用樹脂組成物。 |
イメージ図 |
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実施実績 |
【無】 |
許諾実績 |
【無】 |
特許権譲渡 |
【否】
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特許権実施許諾 |
【可】
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