| 出願番号 |
特願2012-552640 |
| 出願日 |
2011/12/2 |
| 出願人 |
丸善石油化学株式会社 |
| 公開番号 |
WO2012/096071 |
| 公開日 |
2012/7/19 |
| 登録番号 |
特許第5890323号 |
| 特許権者 |
丸善石油化学株式会社 |
| 発明の名称 |
光インプリント用樹脂組成物、パターン形成方法及びエッチングマスク |
| 技術分野 |
有機材料、電気・電子、機械・加工 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
光インプリント用樹脂組成物、パターン形成方法、及びエッチングマスク |
| 目的 |
光インプリントに適用可能であり、樹脂組成物の硬化物薄膜パターン形成時にも基材上の成分の揮発が少なく、良好なパターンが形成でき、基板を高精度に加工するためのエッチングマスクとして、硬化物の耐エッチング性に優れた光インプリント用樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、及びエッチングマスクを提供する。 |
| 効果 |
本発明の光インプリント用樹脂組成物を用いることにより、基材への薄膜塗布後の揮発性が抑えられ、且つ得られた硬化物は耐エッチング性に優れ、基板を高精度に加工するエッチングマスクとして好適である。 |
技術概要
 |
光硬化性モノマー（Ａ）、光硬化性モノマー（Ｂ）、及び光重合開始剤「Ｃ」を含み、前記光硬化性モノマー（Ａ）が下記式（１）で表されるカルバゾール化合物を少なくとも１種類と、前記光硬化性モノマー（Ｂ）が下記式（２）、（３）及び（４）で表される化合物のうち少なくとも1種類を含有し、且つ、光硬化性モノマー（Ａ）と光硬化性モノマー（Ｂ）との重量比率（光硬化性モノマー（Ａ）の重量／光硬化性モノマー（Ｂ）の重量））が３０／７０〜８７／１３である光インプリント用樹脂組成物。 |
| イメージ図 |
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| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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