トポロジカルフォトニック結晶

開放特許情報番号
L2018000607
開放特許情報登録日
2018/3/30
最新更新日
2019/8/23

基本情報

出願番号 特願2015-034902
出願日 2015/2/25
出願人 国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号 特開2016-156971
公開日 2016/9/1
登録番号 特許第6536938号
特許権者 国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称 トポロジカルフォトニック結晶
技術分野 情報・通信、機械・加工
機能 材料・素材の製造
適用製品 トポロジカルフォトニック結晶
目的 シリコン等のありふれた材料を使用し、また特殊で制御が困難なプロセスを要することなく作成できるトポロジカルフォトニック結晶を提供する。
効果 本発明によれば、シリコン等のありふれた材料を使用し、また特殊で制御が困難なプロセスを要することなく作成できるトポロジカルフォトニック結晶が与えられる。
技術概要
平面上に互いに平行に立設された複数の誘電体円柱を有すると共に前記誘電体円柱の周囲が前記誘電体円柱を構成する誘電体とは異なる誘電率を有する誘電体で埋められた領域を設け、
前記領域において、前記複数の誘電体円柱は同じ大きさの正六角形に配置された誘電体円柱の複数の組に分けられ、
前記誘電体円柱の複数の組に対応する複数の前記正六角形の中心は三角格子の格子点に配置されるとともに、前記正六角形の頂点は隣接する二つの前記格子点間を結ぶ格子線上に配置され、
前記正六角形の対角線の長さを2Rとし、前記正六角形とそれに隣接する前記正六角形との中心間の距離をa0とするとき、a0/R<3が成立する
トポロジカルフォトニック結晶。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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