オゾンビーム発生装置

開放特許情報番号

L2018000525

開放特許情報登録日

2018/3/8

最新更新日

2018/3/8

基本情報

出願番号	特願2016-208535
出願日	2012/6/12
出願人	国立研究開発法人物質・材料研究機構
公開番号	特開2017-024986
公開日	2017/2/2
登録番号	特許第6226404号
特許権者	国立研究開発法人物質・材料研究機構
発明の名称	オゾンビーム発生装置
技術分野	化学・薬品、無機材料、電気・電子
機能	材料・素材の製造
適用製品	オゾンビーム発生装置
目的	純粋オゾンの使用によって、真空中で行われる酸化処理プロセス及び酸化力を利用した表面処理プロセスに用いて好適なオゾンビーム発生装置を提供する。
効果	本発明によるオゾンビーム発生装置は、高真空もしくは超高真空中で純オゾンビームを用いることで、高品位の高価数酸化物を低温生成できる。酸化物の結晶性向上のためには高温積層が良いが、その一方で高温は積層間の相互拡散を引き起こすという酸化物エレクトロニクス素子開発の課題を、高真空もしくは超高真空中で純オゾンビームを用いることで、低温積層で克服できる。
技術概要	酸素ガスからオゾン含有ガスを生成するオゾン発生器と、 このオゾン発生器に付加して設けられたオゾン濃縮器と、 真空槽内に設けられた試料の設置位置の近傍まで、前記オゾン濃縮器で濃縮されたオゾン含有ガスを導くオゾン供給管と、 前記オゾン供給管内に導かれた前記オゾン含有ガスを前記試料に向かって噴出するオゾン噴出口と、 前記オゾン供給管内に導かれた前記オゾン含有ガスのうち、前記オゾン噴出口から噴出しない前記オゾン含有ガスを前記真空槽の外部に排出するオゾン排出管と、 を備えるオゾンビーム生成装置であって、 前記オゾン供給管内のオゾン含有ガスはオゾン保全流状態であると共に、オゾン濃度が９０％から１００％であって、残部が酸素ガス並びに不可避的不純物からなり、 前記オゾン保全流状態はクヌーセン数が０．０１以下の粘性流状態であり、 前記オゾン噴出口から噴出するオゾン含有ガスは分子流状態であることを特徴とするオゾンビーム生成装置。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	国立研究開発法人物質・材料研究機構

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】