電子源及び電子線照射装置並びに電子源の製造方法

開放特許情報番号
L2018000441
開放特許情報登録日
2018/2/28
最新更新日
2019/7/30

基本情報

出願番号 特願2017-197923
出願日 2017/10/11
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2019-071260
公開日 2019/5/9
発明の名称 電子源及び電子線照射装置並びに電子源の製造方法
技術分野 電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 電子線照射装置
目的 効率的に、真空中、ガス中、液体中等に電子を放出することが可能な電子源を提供する。
効率的に電子を放出することができる電子源を用いた電子線照射装置を提供する。
効率的な電子放出を実現する電子源の製造方法を提供する。
効果 電子放出面の面積が広くできるので、電子源のサイズに対して電子放出効率がよくなる。また、電子源の電子放出面の面積を広くできる一方、それ以外のモールド等の面積を最小限にできる。
技術概要
第1の電極と、絶縁膜からなる電子加速層と、第2の電極とが積層された構造を備える電子源であって、
表面が電子放出面を構成する前記第2の電極は、グラフェン膜又はグラファイト膜であり、
前記第1の電極及び前記第2の電極の一部又は全部が、曲面を有し、前記電子放出面が曲面であることを特徴とする電子源。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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