汚れの影響を受けにくいひずみ分布測定方法とそのプログラム

開放特許情報番号

L2018000435

開放特許情報登録日

2018/2/28

最新更新日

2022/1/28

基本情報

出願番号	特願2017-193334
出願日	2017/10/3
出願人	国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号	特開2019-066369
公開日	2019/4/25
登録番号	特許第6983402号
特許権者	国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称	汚れの影響を受けにくいひずみ分布測定方法とそのプログラム
技術分野	情報・通信
機能	制御・ソフトウェア
適用製品	ひずみ測定方法とそのプログラム
目的	欠陥が欠陥領域以外の領域におけるひずみ測定結果に影響しない全視野および高精度のひずみ測定方法に関する。
効果	従来のグローバル位相アンラップ技術では測定することが困難である欠陥領域以外の領域におけるひずみ分布測定を実現にするために、ひずみ測定を行う際に試料表面の汚れや格子欠陥の影響を欠陥領域に限定することができる。
技術概要	試料の全視野における面内ひずみ分布を測定する方法であって、 試料に存在する、または、試料に貼付された１次元規則格子または２次元規則格子(以下、規則格子とする)の変形前後のデジタル格子画像を取得し、 前記変形前後のデジタル格子画像からフーリエ変換(FT)を用いて所定の方向の前記規則格子の位相を[-π、π]の範囲に折りたたんで算出し、 前記所定の方向ごとに算出した前記変形前後の規則格子の位相から前記規則格子の位相差を算出し、 前記[-π、π]の範囲において所定の臨界値で定められた位相境界周辺の前記所定の方向の前記規則格子の位相差の偏微分を前記位相差の偏微分に応じて補正し、 前記補正した規則格子の位相差の偏微分に基づいて前記位相境界周辺のひずみ値を前記所定の方向ごとに算出して前記試料の全視野における面内ひずみ分布を測定することを特徴とする方法。
実施実績	【無】
許諾実績	【無】
特許権譲渡	【否】
特許権実施許諾	【可】

登録者情報

登録者名称	国立研究開発法人産業技術総合研究所

その他の情報

関連特許	国内 【無】 国外 【無】