ビーム照射装置、ビーム照射制御方法及び重粒子線治療装置

開放特許情報番号
L2018000423
開放特許情報登録日
2018/2/23
最新更新日
2018/2/23

基本情報

出願番号 特願2011-547355
出願日 2010/8/5
出願人 国立大学法人群馬大学
公開番号 WO2011/080942
公開日 2011/7/7
登録番号 特許第5610404号
特許権者 国立大学法人群馬大学
発明の名称 ビーム照射装置、ビーム照射制御方法及び重粒子線治療装置
技術分野 食品・バイオ、化学・薬品
機能 制御・ソフトウェア、機械・部品の製造
適用製品 ビーム照射制御方法
目的 従来にない極めて細いビーム径に成形できるとともに、高精度にビーム径を制御し、さらにビーム飛程及びビーム軌道をも制御できるビーム照射装置及び、照射対象での照射野の範囲を高精度で制御できるビーム照射制御方法を提供すること。
効果 本発明は、可動レンジシフタの上流の輸送管内でビームを照射対象付近においても収束角を保てるほど強く収束させる4極電磁石を採用することで、照射対象においてビーム径を数mm以下まで極めて細く成形することが可能になる。
技術概要
加速器から取り出されたビームの輸送路となる真空排気された輸送管と、
大気中に存在する照射対象に対しビームが収束角を維持しながら入射するよう前記輸送管の外周に配置されビームを強収束させビーム径を制御する4極電磁石と、
前記輸送管の端部に隔壁を介して伸縮可能に接続し真空排気された出射ノズルと、
からなることを特徴とするビーム照射装置。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 整理番号:IP21-039JP,US

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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