ゲルマニウム層をチャネル領域とする半導体装置およびその製造方法

開放特許情報番号:L2018000401 開放特許情報登録日:2018/2/22 最新更新日:2022/8/25

基本情報
出願番号
公開番号
WO2016/072398
登録番号
出願日
2015/11/2
公開日
2016/5/12
出願人
国立研究開発法人科学技術振興機構
特許権者
国立研究開発法人科学技術振興機構
権利化状況
権利化済
発明の名称
ゲルマニウム層をチャネル領域とする半導体装置およびその製造方法
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
材料・素材の製造 機械・部品の製造
適用製品
ゲルマニウム層をチャネル領域とする半導体装置およびその製造方法
目的
オフ電流に対するオン電流の比を大きくすることが可能な半導体装置およびその製造方法を提供する。
効果
本発明によれば、オフ電流に対するオン電流の比を大きくすることが可能な半導体装置を提供することができる。
技術概要
ゲルマニウム層内に形成された第1導電型を有するチャネル領域と、
前記ゲルマニウム層内に形成され、前記第1導電型と異なる第2導電型を有するソース領域およびドレイン領域と、
を具備し、
前記チャネル領域における酸素濃度は、前記ソース領域およびドレイン領域の少なくとも一方の領域と前記少なくとも一方の領域を囲む前記第1導電型を有する領域との接合界面における酸素濃度より低いことを特徴とする半導体装置。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
固定URLをクリップボードにコピーしました。
Copyright © INPIT Rights Reserved