ポリエチレン製多孔質膜の製造方法およびポリエチレン製多孔質膜

開放特許情報番号
L2018000288
開放特許情報登録日
2018/2/9
最新更新日
2018/2/9

基本情報

出願番号 特願2014-532925
出願日 2013/8/16
出願人 国立大学法人群馬大学
公開番号 WO2014/034448
公開日 2014/3/6
登録番号 特許第6146781号
特許権者 国立大学法人群馬大学
発明の名称 ポリエチレン製多孔質膜の製造方法およびポリエチレン製多孔質膜
技術分野 有機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 ポリエチレン製多孔質膜を製造する方法及び、ポリエチレン製多孔質膜
目的 細孔径がnmオーダーと微小であり、かつ、細孔容積や比表面積が大きいにも関わらず、引張り破断強度および引き裂き強度が高く、気体透過係数の高いポリエチレン製多孔質膜、及びこのようなポリエチレン製多孔質膜の製造方法を提供する。
効果 細孔径がnmオーダー、例えば、200nm以下と微小であり、かつ、細孔容積や比表面積が大きく、気体透過係数の高いポリエチレン製多孔質膜が提供される。
また、引張り破断強度および引き裂き強度が高いポリエチレン製多孔質膜の製造方法が提供される。
本発明のポリエチレン製多孔質膜の製造方法においては、収縮処理を含まないので、より簡便にポリエチレン製多孔質膜を製造することができる。
技術概要
粘度平均分子量が100万〜1500万である超高分子量ポリエチレンと、重量平均分子量が1万〜80万であるポリエチレンとを、50:50〜99:1の質量比で含有し、ラメラ結晶を有するフィルムを、延伸のみによりラメラ結晶間を剥離させることにより開孔して得られた細孔を有し、水銀圧入法にて室温(20℃)で測定した平均細孔直径が200nm以下であり、比表面積が50m↑2/g以上であり、且つ、空隙率が15%以上であるポリエチレン製多孔質膜。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

アピール内容 整理番号:IP23-046JP,US,EP,CN

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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