ナノインプリント用樹脂組成物、ナノインプリント基板、及びナノインプリント基板の製造方法

開放特許情報番号
L2018000255
開放特許情報登録日
2018/2/8
最新更新日
2018/2/8

基本情報

出願番号 特願2014-525216
出願日 2013/11/13
出願人 国立研究開発法人科学技術振興機構
公開番号 WO2014/087817
公開日 2014/6/12
登録番号 特許第5689207号
特許権者 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 ナノインプリント用樹脂組成物、ナノインプリント基板、及びナノインプリント基板の製造方法
技術分野 機械・加工、有機材料、電気・電子
機能 機械・部品の製造、材料・素材の製造
適用製品 ナノインプリント用樹脂組成物、ナノインプリント基板、及びナノインプリント基板の製造方法
目的 ナノインプリント用樹脂組成物、ナノインプリント基板、及びナノインプリント基板の製造方法を提供する。
効果 本発明のナノインプリント用樹脂の層を、基板とモールドのパターンを転写する被転写樹脂の間に設けてナノインプリントすることで、基板及び被転写樹脂の種類を問わずモールドを剥離する際に基板から被転写樹脂が剥離することを防止できる。
また、本発明のナノインプリント用樹脂を用いることで、モールドを剥離する際の温度が高くても精度よくモールドのパターンを被転写樹脂に転写することができるので、熱ナノインプリントのスループットを向上することができる。
技術概要
式(1)で表される樹脂を含む、基板とモールドが転写される被転写樹脂層との間に用いられるナノインプリント用樹脂組成物。
(式中、R↓1〜R↓5は、それぞれ独立に−H又は−OHを表しR↓1〜R↓5の少なくとも1つは−OHである。R↓6は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、又は炭素数7〜20のアラルキル基を表す。Xは、アミド又はエステルを表す。Yは、アミド又はエステルを表すが、含まれていなくてもよい。pは1〜10の整数を表す。m及びnは1以上の整数である。)
イメージ図
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

アピール情報

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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