ピラーアレー構造体の製造方法

開放特許情報番号
L2018000213
開放特許情報登録日
2018/1/30
最新更新日
2018/1/30

基本情報

出願番号 特願2016-134834
出願日 2016/7/7
出願人 公立大学法人首都大学東京
公開番号 特開2017-160528
公開日 2017/9/14
発明の名称 ピラーアレー構造体の製造方法
技術分野 金属材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 ピラーアレー構造体の製造方法
目的 より高いアスペクト比の金属柱を含んだピラーアレー構造体を作製できるピラーアレー構造体の製造方法を提供する。
効果 従来よりも高いアスペクト比の金属柱を含み、かつ金属柱の高さのばらつきの少ないピラーアレー構造体が得られる。
技術概要
アルミニウム基板の表面を陽極酸化させてポーラスアルミナ層を形成する工程と、
前記ポーラスアルミナ層の表面にレジストパターンを形成する工程と、
湿式エッチングを行って前記レジストパターンに覆われていない部分のポーラスアルミナ層を選択的に溶解除去して開口パターンを形成する工程と、
前記開口パターンの底に露出したアルミニウム基板に対して置換メッキを行う工程と、
前記置換メッキの後に電解メッキを行うことにより、前記開口パターン内を埋める金属柱と、前記ポーラスアルミナ層の上方を覆って前記金属柱に繋がったオーバーフロー層と、を形成する工程と、
前記アルミニウム基板及びポーラスアルミナ層を除去する工程と、
を有することを特徴とするピラーアレー構造体の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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