磁気デバイスおよびその製造方法

開放特許情報番号
L2017002290
開放特許情報登録日
2017/12/15
最新更新日
2017/12/15

基本情報

出願番号 特願2007-150337
出願日 2007/6/6
出願人 株式会社フジクラ
公開番号 特開2008-305899
公開日 2008/12/18
登録番号 特許第5075489号
特許権者 株式会社フジクラ
発明の名称 磁気デバイスおよびその製造方法
技術分野 電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 磁気デバイス
目的 本発明は、薄膜製造技術を用いて形成することができ、バイアス磁界を印加させる必要がない薄膜タイプの磁性体素子と、外部磁界の変化による磁性体素子の特性変化を電圧の変化として検出することができるピックアップコイルを備えた磁気デバイスを提供することを目的とする。
また、本発明は、特性のばらつきが抑制され、優れた歩留まりで容易に製造できる磁気デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
効果 本発明は、特性のばらつきが抑制され、優れた歩留まりで容易に製造できる磁気デバイスの製造方法を提供することができる。
技術概要
 
本発明は、薄膜製造技術を用いて形成することができ、バイアス磁界を印加させる必要がない薄膜タイプの磁性体素子と、外部磁界の変化による磁性体素子の特性変化を電圧の変化として検出することができるピックアップコイルを備えた磁気デバイスを提供するものであり、また、特性のばらつきが抑制され、優れた歩留まりで容易に製造できる磁気デバイスの製造方法を提供するものである。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】
実施権条件 要相談

登録者情報

登録者名称 株式会社フジクラ

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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