電子デバイスの製造方法

開放特許情報番号
L2017002259
開放特許情報登録日
2017/12/12
最新更新日
2019/5/31

基本情報

出願番号 特願2017-167501
出願日 2017/8/31
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2019-043009
公開日 2019/3/22
発明の名称 電子デバイスの製造方法
技術分野 機械・加工、電気・電子
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 電子デバイスを製造する方法
目的 機能性インクの膜パターンを被転写物の正確な位置に与え得る印刷技術による電子デバイスの製造方法を提供する。
効果 機能性インクの膜パターンを被転写物の正確な位置に与え得る。
技術概要
ブランケット上の機能性インクの膜パターンを被転写物に転写し印刷した電子パターンからなる電子デバイスの製造方法であって、
所定厚さを有するゴムからなる表層を有する前記ブランケット上に前記機能性インクをベタ塗りする工程と、
前記電子パターンを反転させた反転パターンを凸部に有する凸版平板を用意する凸版平板準備工程と、
前記ブランケットを前記凸版平板に近接させて前記凸部に対応した前記機能性インクを前記ブランケット上から除去する工程と、
前記ブランケット上の前記機能性インクを前記被転写物に転写して印刷する工程と、を含み、
前記凸版平板準備工程は、前記ブランケットの前記所定厚さ以下の距離で隣接し中間線を挟んでその形状を互いに非対称とする一対の前記凸部の組を検出する検出工程と、一対の前記凸部の組の形状を補正する補正工程と、を含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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