真空吸引方法及び真空処理装置ならびにサブリメーションポンプ

開放特許情報番号
L2017002088
開放特許情報登録日
2017/11/29
最新更新日
2017/11/29

基本情報

出願番号 特願2013-099058
出願日 2013/5/9
出願人 日本放送協会
公開番号 特開2014-218705
公開日 2014/11/20
登録番号 特許第6185751号
特許権者 日本放送協会
発明の名称 真空吸引方法及び真空処理装置ならびにサブリメーションポンプ
技術分野 金属材料、電気・電子、機械・加工
機能 機械・部品の製造
適用製品 真空吸引方法及び真空処理装置ならびにサブリメーションポンプ
目的 処理される原料等にかかわらず真空処理室内を短時間で真空にすることができ、また、真空にするために簡単に入手できる素材を使用することができる真空吸引方法及び真空吸引装置ならびにサブリメーションポンプを提供する。
効果 真空吸引方法では、堆積させたSi系堆積膜のSiダングリングボンドによる吸着作用により、真空処理室内に浮遊している真空を阻害するガスを吸着して除去し、排気効率を向上させることができる。
真空処理装置は、簡単な構成によりSi系堆積膜のSiダングリングボンドによる吸着作用で真空を阻害するガスを除去し排気効率を向上して短時間で真空状態を確保することができる。
サブリメーションポンプは、原料の調達が容易で、かつ、真空を阻害するガスを除去し、真空処理室を迅速に真空にすることが可能となる。
技術概要
Si、Si合金、Si化合物、Si混合物のいずれかである固相状態のSi系材料を真空処理室内又は前記真空処理室に隣接して連通する予備室内に設置し、前記真空処理室内、又は、前記予備室内で、前記Si系材料を固相状態から直接的又は間接的に気相状態とし、前記真空処理室内又は予備室内の少なくとも一部にSi系堆積膜を堆積させて、前記真空処理室内、又は、前記真空処理室及び前記予備室内を真空にし、
前記Si系材料は、線材状のSi系フィラメントであり、前記予備室が前記Si系フィラメントを収納するフィラメント収納室であり、前記Si系フィラメントの融点以下において加熱して昇華させることで気相状態とし、前記フィラメント収納室内の少なくとも一部に前記Si系堆積膜を堆積させて形成することを特徴とする真空吸引方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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