中空構造体の製造方法

開放特許情報番号
L2017001176
開放特許情報登録日
2017/8/2
最新更新日
2018/7/24

基本情報

出願番号 特願2017-085837
出願日 2017/4/25
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2018-069440
公開日 2018/5/10
発明の名称 中空構造体の製造方法
技術分野 輸送、情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 中空構造体の製造方法
目的 犠牲層を用いることなくアディティブ法により、低環境負荷で工程が簡便な中空構造体の製造方法を提供する。
効果 本発明によれば、中空構造体を低環境負荷で製造でき、また省工程で形成できる。
技術概要
転写用基材の表面に形成された低表面エネルギー材料層上に、樹脂を含むインクを塗布する工程と、塗布したインクを樹脂含有層にする樹脂含有層形成工程と、樹脂含有層を、接着部を用いて、基材に転写することにより、樹脂含有層と基材との間に一部が開放された空間を有する中空構造体を形成する転写工程とにより、中空構造体を製造する。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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