ポリシランの製造方法

開放特許情報番号
L2017000528
開放特許情報登録日
2017/4/10
最新更新日
2017/4/10

基本情報

出願番号 特願2017-042305
出願日 2017/3/7
出願人 国立大学法人岐阜大学
発明の名称 ポリシランの製造方法
技術分野 その他
機能 その他
適用製品 注:本件は未公開のため、公開後に提示します。内容については下記の問い合わせ先にご連絡頂ければご紹介いたします。
目的 注:本件は未公開のため、公開後に提示します。内容については下記の問い合わせ先にご連絡頂ければご紹介いたします。
効果 注:本件は未公開のため、公開後に提示します。内容については下記の問い合わせ先にご連絡頂ければご紹介いたします。
技術概要
 
直鎖ポリシランは、電子材料、非線形光学材料、あるいはセラミック材料などへの応用から、現在、非常に注目されている。しかし、簡便に効率よく、さらに単分散組成を持つ直鎖高分子量のポリマーを選択的に合成することは困難であった。本発明では、シランの水素を脱プロトン化し、得られたアニオン種に脱離基を持つシランを求核付加することを繰り返すことにより、繰り返しの回数に依存した長鎖のポリシランが得られる方法を開発した。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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