微細立体構造物の作製方法

開放特許情報番号
L2017000495
開放特許情報登録日
2017/4/3
最新更新日
2018/8/31

基本情報

出願番号 特願2016-240376
出願日 2016/12/12
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2018-094661
公開日 2018/6/21
発明の名称 微細立体構造物の作製方法
技術分野 輸送、情報・通信
機能 材料・素材の製造
適用製品 ナノメートルからマイクロメートルサイズの微細立体構造物の作製方法
目的 微細立体構造物の先端位置の高さを高精度に設計することが可能となる、微細立体構造物の作製方法を提供すること。
効果 イオン注入中に片持ち梁構造が変形することによって、実効的なイオン注入角度が変化することを防ぐことができるため、微細立体構造物の先端位置の高さを高精度に設計することが可能になる。
技術概要
基板を用意する工程と、該基板上に先端を有する薄膜材を形成する工程と、該薄膜材の先端付近に選択的にイオンを注入する工程と、少なくとも該先端付近の下側に位置する基板表面をエッチングし、該薄膜材を片持ち梁構造とすることにより、選択的にイオンを注入した該先端付近を立体湾曲させる工程とを含む微細立体構造物の作製方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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