光導波路の製造方法

開放特許情報番号
L2016002063
開放特許情報登録日
2016/12/28
最新更新日
2018/5/28

基本情報

出願番号 特願2016-178558
出願日 2016/9/13
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 特開2018-045031
公開日 2018/3/22
発明の名称 光導波路の製造方法
技術分野 情報・通信
機能 制御・ソフトウェア
適用製品 光導波路の製造方法
目的 従来からある汎用的な露光装置をベースにしたUV露光により比較的狭い線幅(例えば10μm以下、数μm)を持つポリマーコアを有するシングルモードポリマー光導波路を提供する。
効果 ポリマーからなるコア層を酸素を含まないまたは酸素が希薄な雰囲気中でマスクを介して紫外線で露光するステップを含むので、露光中にコア層のポリマーが雰囲気中の酸素と結合して露光によるポリマーの硬化を阻害してしまう事態を防ぐことができる。その結果、露光後の現像工程において、マスクパターンの幅(透明幅)に近い比較的狭い(例えば10μm以下、数μm)ライン幅を有するコア(光導波路)を精度良く得ることができる。また、その露光工程において、従来の大気中での露光に比べてUV露光(照射)時間を大幅に短くすることができる。
技術概要
光導波路の製造方法であって、
基板上に第1クラッド層を形成するステップと、
第1クラッド層上にポリマーからなるコア層を形成するステップと、
コア層をパターン化して所定サイズのコアを形成するステップと、
第1クラッド層とコアを覆う第2クラッド層を形成するステップと、を含み、
前記所定サイズのコアを形成するステップは、
酸素を含まないまたは酸素が希薄な雰囲気中で、前記コア層をマスクを介して紫外線で露光するステップと、
露光された前記コア層を現像するステップと、を含む製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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