フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法

開放特許情報番号
L2016001961
開放特許情報登録日
2016/12/19
最新更新日
2016/12/19

基本情報

出願番号 特願2008-164382
出願日 2008/6/24
出願人 共同印刷株式会社、日本放送協会
公開番号 特開2010-010186
公開日 2010/1/14
登録番号 特許第5368014号
特許権者 日本放送協会
発明の名称 フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法
技術分野 電気・電子、情報・通信
機能 機械・部品の製造
適用製品 フレキシブル有機ELディスプレイの製造方法
目的 プラスチックフィルムの上に所望の酸化物半導体TFTと有機EL素子とを高歩留りで安定して形成できるフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法を提供する。
効果 本発明では、転写時の分離層として透明剥離層を使用するようにしたので、仮基板を剥離した後に露出する透明剥離層をディスプレイの表面保護層として利用することができる。このため、転写技術を使用する製造方法において、剥離層を除去したり、表面保護層を特別に形成したりする必要がないので、製造工程を簡略化することができ、コスト低減を図ることができる。
技術概要
仮基板の上に透明剥離層を形成する工程と、前記透明剥離層の上方に、下から順に、ゲート電極と、ゲート絶縁層と、ソース電極及びドレイン電極と、酸化物半導体層とから構成される前記TFTを形成する工程と、前記TFTの上に第1絶縁層を形成する工程と、前記第1絶縁層を加工することにより、前記TFTの前記ドレイン電極に到達するビアホールを形成する工程と、前記ビアホールを介して前記ドレイン電極に接続される陰極と、前記陰極の上に形成された有機EL層と、前記有機EL層の上に形成された陽極とから構成される前記有機EL素子を前記第1絶縁層の上に形成する工程と、前記有機EL素子の上に第2絶縁層を形成する工程と、前記第2絶縁層の上に接着層を介してプラスチックフィルムを接着する工程と、前記仮基板を前記透明剥離層との界面から剥離することにより、前記プラスチックフィルム上に、前記接着層を介して、前記第2絶縁層、前記有機EL素子、前記第1絶縁層、前記TFT及び前記透明剥離層を転写・形成する工程とを有するフレキシブル有機ELディスプレイの製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
Copyright © 2017 INPIT