コバルトマイクロ構造物及びこれを用いたキャパシタの製造方法

開放特許情報番号
L2016001917
開放特許情報登録日
2016/12/15
最新更新日
2016/12/15

基本情報

出願番号 特願2015-045379
出願日 2015/3/8
出願人 国立大学法人 千葉大学
公開番号 特開2016-164299
公開日 2016/9/8
発明の名称 コバルトマイクロ構造物及びこれを用いたキャパシタの製造方法
技術分野 機械・加工、電気・電子
機能 機械・部品の製造
適用製品 コバルトマイクロ構造物及びこれを用いたキャパシタの製造方法
目的 より簡便にコバルトマイクロ構造物を製造する方法を提供する。
効果 本発明によって、より簡便にコバルトマイクロ構造物を製造する方法を提供することができる。
技術概要
磁場を印加した状態において、コバルト錯体を含む溶液に還元剤を加えるコバルトマイクロ構造物の製造方法とする。なおこの場合において、還元剤は、ヒドラジンを含むことが好ましく、また、コバルト錯体を含む溶液において、溶媒は水及びアルコールの少なくともいずれかを含むことが好ましい。この結果、より簡便にコバルトマイクロ構造物及びこれを用いたキャパシタを製造することができる。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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