| 出願番号 |
特願2015-016077 |
| 出願日 |
2015/1/29 |
| 出願人 |
学校法人東京電機大学 |
| 公開番号 |
特開2016-141697 |
| 公開日 |
2016/8/8 |
| 登録番号 |
特許第6457281号 |
| 特許権者 |
学校法人東京電機大学 |
| 発明の名称 |
修飾ヒアルロン酸及び／又はその塩、並びにその製造方法 |
| 技術分野 |
有機材料、食品・バイオ、化学・薬品 |
| 機能 |
材料・素材の製造 |
| 適用製品 |
修飾ヒアルロン酸及び／又はその塩、並びにその製造方法 |
| 目的 |
耐酵素分解活性及び高い生理活性を有する修飾ヒアルロン酸及び／又はその塩、並びにその製造方法を提供する。 |
| 効果 |
皮膚、関節等の生体組織において耐酵素分解活性及び高い生理活性を有し、かつ、水溶性に優れた修飾ヒアルロン酸、並びにその製造方法を提供可能である。本発明の修飾ヒアルロン酸は、化粧品、医薬品、及び飲食品等への利用に有用である。 |
技術概要
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分子量が７５０以上２０，０００以下であるポリグルタミル基で修飾された修飾ヒアルロン酸及び／又はその塩を提供する。また、ヒアルロン酸と分子量が７５０以上２０，０００以下であるポリグルタミン酸を反応させることを含む、ポリグルタミル基で修飾された修飾ヒアルロン酸及び／又はその塩の製造方法を提供する。 |
| 実施実績 |
【無】 |
| 許諾実績 |
【無】 |
| 特許権譲渡 |
【否】
|
| 特許権実施許諾 |
【可】
|
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