シリコンナノ粒子の製造方法

開放特許情報番号
L2016001866
開放特許情報登録日
2016/12/9
最新更新日
2017/2/24

基本情報

出願番号 特願2013-044180
出願日 2013/3/6
出願人 学校法人東京電機大学
公開番号 特開2014-172766
公開日 2014/9/22
登録番号 特許第6057424号
特許権者 学校法人東京電機大学
発明の名称 シリコンナノ粒子の製造方法
技術分野 化学・薬品、無機材料
機能 材料・素材の製造
適用製品 シリコンナノ粒子の製造方法
目的 シリコンナノ粒子を製造する際に粒子凝集を抑えて粒径を充分に制御することが可能なシリコンナノ粒子の製造方法を提供する。
効果 本発明によれば、シリコンナノ粒子を製造する際に粒子凝集を抑えて粒径を充分に制御することができるシリコンナノ粒子の製造方法を提供することができる。
技術概要
化学エッチング法によりシリコン粉末からシリコンナノ粒子を製造するシリコンナノ粒子の製造方法であって、
水と有機溶媒とを混合させた混合溶液にシリコン粉末を投入する投入工程と、
前記シリコン粉末を構成するシリコン粒子を前記混合溶液内で予め分散させる前分散処理工程と、
前記前分散処理工程を行った後の前記混合溶液にエッチング液を投入して前記シリコン粒子を細径化させることでシリコンナノ粒子とするエッチング工程と、
を備えることを特徴とするシリコンナノ粒子の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

登録者名称 東京電機大学

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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