グラフェン膜の製造方法、並びにグラフェン膜及びこれを用いた積層体

開放特許情報番号
L2016001778
開放特許情報登録日
2016/11/23
最新更新日
2016/11/23

基本情報

出願番号 特願2014-186752
出願日 2014/9/12
出願人 国立大学法人静岡大学
公開番号 特開2016-060646
公開日 2016/4/25
発明の名称 グラフェン膜の製造方法、並びにグラフェン膜及びこれを用いた積層体
技術分野 化学・薬品、無機材料、電気・電子
機能 材料・素材の製造
適用製品 グラフェン膜の製造方法、並びにグラフェン膜及びこれを用いた積層体
目的 酸化グラフェンの還元により、高い電気伝導率を含む広い範囲の電気伝導率を有するグラフェン膜の製造を可能にする。
効果 酸化グラフェンの還元により、高い電気伝導率を含む広い範囲の電気伝導率を有するグラフェン膜の製造を可能にすることができる。本発明の方法にも用いられるヨウ化水素は、ヒドラジン等の他の還元剤と比較して安全性が高く、取り扱いが容易である。しかも、ヨウ化水素の使用量を少なくすることが可能であり、環境負荷が低減されることも期待できる。
技術概要
酸素含有官能基を有する酸化グラフェンを含む酸化グラフェン膜をヨウ化水素及びアルコールを含む流体と接触させて、前記酸化グラフェン膜中の前記酸素含有官能基の一部又は全部を還元する工程を備える、グラフェン膜の製造方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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