希薄ガス濃度測定方法

開放特許情報番号
L2016001275
開放特許情報登録日
2016/8/3
最新更新日
2019/8/29

基本情報

出願番号 特願2018-514677
出願日 2017/4/26
出願人 国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号 WO2017/188340
公開日 2017/11/2
発明の名称 希薄ガス濃度測定方法
技術分野 情報・通信、機械・加工
機能 検査・検出
適用製品 希薄ガスの濃度を測定するための方法
目的 雰囲気中の対象ガス(物質)の濃度が極めて低濃度であってもその測定を可能とする希薄ガス濃度測定方法を提供する。
効果 吸着材として多孔性配位高分子を利用し対象ガス(物質)を高濃度に吸着濃縮させ、その濃縮によって増幅される信号としての光学応答を利用することで、雰囲気内の対象物質濃度が極めて低濃度であってもその評価が可能であることを見出したものである。
技術概要
対象気体中に含まれる測定対象ガスを多孔性配位高分子膜に吸着させ光学測定し、前記測定対象ガスを起源とする前記多孔性配位高分子膜の光学特性変化から前記測定対象ガスの濃度を計測することを特徴とする希薄ガス濃度測定方法。
実施実績 【無】   
許諾実績 【無】   
特許権譲渡 【否】
特許権実施許諾 【可】

登録者情報

その他の情報

関連特許
国内 【無】
国外 【無】   
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